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张应叙 先生
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发布时间：2020-04-18 05:13:26
1.预喷淋：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水。
2.显影喷淋：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：E2喷嘴，LD喷嘴，GP喷嘴，MGP喷嘴等。
3.显影液表面停留：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。
4.显影液去除并且清洗：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。图1.13是一个典型的去离子水冲洗工艺。
5. 甩干：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速
为了提高注塑模制品表面的装饰效果、掩盖模具型腔表面缺陷，需要对模具型腔表面进行花纹加工。加工工艺是先在型腔表面制作一个有花纹图案的保护膜，然后再在蚀刻溶液中完成腐蚀成型的工序。保护膜(掩膜)的制作通常是用感光法和转移法，感光法就是照相，显影再腐蚀。转移法就是用丝网印刷将花纹图案转移到需要的型腔内表面，再经烘烤、腐蚀即得到蚀刻纹。
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