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东莞市清溪利成感光五金厂

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东莞市清溪利成感光五金厂
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平面***显影公司性价比出众“本信息长期有效”

发布时间:2020-05-03 03:05:33        

所谓显影点,发生在光阻***后以显影液显影的过程中,当所要去除的所有光阻区域都恰好去除时,这个作业点就是显影点。显影点的前后,受到显影设备速度、喷压、药液温度、药液浓度、光阻特性等影响。要获得良好显影效果,保证显影良好、分辨率恰当,除了要有良好***,一般都会将显影点设在设备长度50~80%的位置,以免显影过度或不足。


抗酸性油墨大多是一些碱溶性油墨,经蚀刻后的防蚀层可用碱性溶液去除掉,这种类型的油墨中都会有可皂化或溶于碱性溶液的基团,这是目前在金属蚀刻中应用得广泛的油墨。

防蚀材料是保证蚀刻质量的重要因素,劣质的油墨可能引起砂眼、白点、起泡、表面不均匀的情况出现,严重影响蚀刻图案的质量,或者脱墨困难,也对产品质量造成影响。同时防蚀材料的厚度与烘烤时间也是影响蚀刻质量的重要因素,因此拥有蚀刻经验丰富技术人员至关重要。



1.预喷淋:为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能,先在硅片表面喷上一点去离子水。

2.显影喷淋:在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上,显影喷嘴分为以下几种:E2喷嘴,LD喷嘴,GP喷嘴,MGP喷嘴等。

3.显影液表面停留:为了让显影液与光刻胶进行充分反应,显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。

4.显影液去除并且清洗:达到显影时间后,使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止,而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中,晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。图1.13是一个典型的去离子水冲洗工艺。

5. 甩干:为了将表面的去离子水甩干,将硅片转到高转速



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