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1.预喷淋：为了提高后面显影液在硅片表面的附着性能，先在硅片表面喷上一点去离子水。

2.显影喷淋：在硅片表面涂覆显影液。为了将显影液均匀地涂覆到硅片表面上，显影喷嘴分为以下几种：E2喷嘴，LD喷嘴，GP喷嘴，MGP喷嘴等。

3.显影液表面停留：为了让显影液与光刻胶进行充分反应，显影液喷淋后需要在硅片表面停留一般为几十秒到一两分钟。

4.显影液去除并且清洗：达到显影时间后，使用DIW立即冲洗晶圆表面。去离子水不仅可以使显影过程终止，而且会把显影后缺陷颗粒冲洗掉。在冲洗过程中，晶圆旋转产生的离心力也对去除表面颗粒有很大的帮助。图1.13是一个典型的去离子水冲洗工艺。

5. 甩干：为了将表面的去离子水甩干，将硅片转到高转速

蚀刻加工产业，在国外至少有50年的发展，而在中国，***的蚀刻厂发展才是近10年的时间。要想改变中国蚀刻厂整体低端化的现状，

一，需要在设备上更新，需要更精密的蚀刻设备进行加工生产。

二，蚀刻***知识要更新，不可闭门造车，多了解同行的迅速发展状态。

三，坚持以我为主，不断但创新蚀刻技术，研究更深的蚀刻工艺要求。只有这样深圳蚀刻厂的整体运作生产能力才能大幅提高，才能在精密蚀刻加工方面占有一席之地。

同时里面的粒子来回移动时会发生撞击产生更多的离子,于是灯管的阻抗会迅速的降低,如果不加控制的话灯管内的的电流会一直变大直到烧毁灯管.所以在实际的电路中都有一个镇流器,它的作用就是限制电流的增加使其保持在一个平衡状态.在上述过程中气体原子由于受到能量激发(粒子撞击)便会发出光子,同时由于受到由于粒子的轰击,灯管内的会变成气态甚至等离子体,gong原子内的电子受到激发也会释放出光子.gong原子发出的光的波长正好在紫光和X射线之间,称为紫外线.