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张应叙 先生
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发布时间：2020-06-10 07:14:03
干膜显影不洁因素很多，例如：显影线喷嘴堵塞、***露光现象、残渣回沾、显影液老化、***时间过长、显影时间不足、保护膜清除不全、底片破洞、干膜回溶等太多因素。因此要清楚是什么问题，还是要看缺点现象如何。
经过氯化铜测试的电路板，使用盐酸或微蚀液就可以去除残痕。但是您必须是轻微测试才可执行，若事先氯化铜测试过度，则表面可能过度损伤不易回复平整新鲜状态，这种状况下要去除就有问题。
温度与湿度对贴膜的影响：不同的干膜都有比较适宜的贴膜温度。如贴膜温度过低，由于抗蚀膜得不到充分的软化和适当的流动，导致干膜与覆铜箔层压板表面结合力差；若温度过高由于抗蚀剂中的溶剂和其它挥发性物质的迅速挥发而产生气泡，而且干膜变脆而不耐电镀形成起翘剥离，造成渗镀而报废。目前使用的无锡DFP型和美国杜邦3000型的干膜，一般控制的贴膜温度为70-900C.为了解决此问题，现在普遍的做法为在主体***完成后增加一个边缘***的工艺，其主要功用为防止静电的产生及后段框胶贴附的质量，另一个功用就是去除基板四周的不必要的残留。现有的用于***显影的设备，其包括主体***机10、边缘***装20及显影装置30。基板由主体***机10进行主体***，然后由传送装置40，例如机械手臂，将基板传送至边缘***装置20，完成边缘***后，再由传送装置40将基板传送至基板输送机构50，由此进入显影装置30。
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